开发沈阳真空渗碳设备
根据用途的不同，沈阳真空渗碳设备可分为多种类型：
根据设备配置处理室数量的要求，用户可选择单室、双室、三室或多室炉
用户可根据渗碳工件的不同装载方式选择垂直或水平炉
用户可根据不同的淬火方法选择油淬或气淬炉
根据处理室的不同功能，用户可选择脱气室、预热室、渗碳室、碳氮共渗室、缓冷室或淬火室
用户可根据生产量选择周期性真空渗碳设备或生产线性真空渗碳设备
20世纪50年代，美国Ipsen公司提出了真空渗碳，并于1960年申请了专利。1968年，美国Hayes公司首先在VCQ油冷气冷沈阳真空热处理炉中增加了气体渗碳装置，并进行了高温渗碳试验。1972年取得了积极成果，VSQ炉于1974年6月成功开发。因此，真空低压渗碳的诸多优点进入了人们的视野，引起了企业的关注和研发兴趣。
20世纪70、20世纪80年代，日本和欧洲公司先后发明了以丙烷为渗碳介质的真空渗碳技术。20世纪90年代中期，Ipsen开发了乙炔低压渗碳技术。乙炔低压渗碳解决了困扰真空渗碳多年的碳黑问题，使低压渗碳技术发生了革命性的变化。
自20世纪90年代以来，由于真空低压渗碳技术的一系列优势，真空渗碳在航空航天、汽车工业、船舶、武器、军工、电子、模具等行业的应用越来越广泛。特别是在汽车零部件制造领域，越来越多的用户将选择真空渗碳多用炉，真空渗碳技术将在国内汽车工业领域迅速发展。
在中国热处理行业“十三五”规划中，“沈阳真空热处理”明确被列为转移和推广先进技术成果的项工作，突出了真空渗碳设备和工艺技术是国际“真空热处理”的前沿技术，是真空热处理发展的主要方向。
真空渗碳技术作为一种清洁热处理技术得到了推广和应用，已成为更具潜力和可替代可控气体渗碳的有效方法，具有良好的发展前景。积极推广真空渗碳高压气体淬火技术和设备，有利于促进我国机械制造和环境保护的发展，对努力建立高效、清洁、低碳、循环的绿色制造体系具有重要意义。